常壓式氬氣電漿系統

從研發單位用途到大量生產需求,Surfx皆提供可靠且穩定的氬氣電漿設備。這些設備專為連續式生產所設計,能以單站形式整併於產線當中。
100% 電中性
不會對熱敏感性高分子、或是對電磁敏感的半導體元件造成損害。
電漿源
A600系統包含了600W的射頻電源供應器,可依需求搭配Minibeam或處理幅寬25、50、75、100mm之線性電漿頭。
高效能
高效的電容式電漿可快速清潔和活化表面,並將耗氣量降至最低。
即時監控
即時偵測與控制:功率、氣體流量、電漿頭溫度

耐用、可靠、低故障Surfx 常壓式電漿系統

Surfx氬氣電漿為一低溫,且100%電中性之均勻輝光電漿,對於熱敏感性高分子、或是對電磁敏感的電子元件不會造成任何損害。此設備不產生偏壓、火花、電弧放電、紫外光或靜電放電,也不會對操作人員造成危險。高效的處理能力,一年可以處理數百萬計的樣品數。此外,耐用、可靠的設備特性,將為客戶提供長時間的穩定產品表現。

與我們的工程團隊連繫

我們的常壓式氬氣電漿系統可以清潔和活化各種材料,包括玻璃、陶瓷、高分子、半導體和金屬。如果您遇到難題,我們的工程團隊將為您解決!

AtomfloTM 500 / 600 常壓式電漿系統

我們的電漿系統包含了主控制器、冷卻液控制系統、電漿頭以及對應的電纜線組。A500系統搭載300W的射頻電源供應器,可搭配Minibeam以及25和50mm的線性電漿頭進行使用。A600則是搭載600W的射頻電源供應器,同樣可以搭配Minibeam以及最長100mm的線性電漿頭進行使用。設備需通入氬氣與其他製程氣體,製程氣體最多可以通入2種,依據應用需求可以選擇氧氣、氮氣、氫氣或是其他特殊性氣體。氧氣與氮氣電漿主要適用於高分子表面清潔,以及部分金屬的貼合前處理。氫氣電漿則是針對金屬氧化物的還原處理,例如銀、銅以及焊料。
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主控制器的功能與特色

· 內嵌式Windows系統與LabVIEW人機介面
· 8吋觸控式螢幕
· 27.12 MHz射頻電源、自動阻抗匹配、多種調校演算法
· 以內循環水冷系統對電漿頭進行溫度控制
· 精準的流量控制,可以供給0.5~2%的製程氣體於氬氣當中
· 參數的即時監測與控制:正負功率、氣體流量、電漿頭溫度
設備通訊選項包含乙太網路或RS232

關於我們

Surfx Technologies提供了市場上最好的氬氣電漿:高產能、均勻性佳、完備製程控制、高可靠度、高品質。我們的常壓式氬氣電漿對電磁敏感的電子元件完全無害,也適合用於連續式生產,針對表面進行清潔、活化以促進接著表現。我們的專業團隊會協助您,選擇最適合您的電漿解決方案。

© Copyright 2018 Surfx Technologies, LLC

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