我們的電漿系統包含了主控制器、冷卻液控制系統、電漿頭以及對應的電纜線組。A500系統搭載300W的射頻電源供應器，可搭配Minibeam以及25和50mm的線性電漿頭進行使用。A600則是搭載600W的射頻電源供應器，同樣可以搭配Minibeam以及最長100mm的線性電漿頭進行使用。設備需通入氬氣與其他製程氣體，製程氣體最多可以通入2種，依據應用需求可以選擇氧氣、氮氣、氫氣或是其他特殊性氣體。氧氣與氮氣電漿主要適用於高分子表面清潔，以及部分金屬的貼合前處理。氫氣電漿則是針對金屬氧化物的還原處理，例如銀、銅以及焊料。