顛覆電漿處理技術
非物理性破壞

可連續式的應用於表面清潔、活化以及接著促進之常壓式氬氣電漿系統

顛覆電漿處理技術
連續式生產

可連續式的應用於表面清潔、活化以及接著促進之常壓式氬氣電漿系統

顛覆電漿處理技術
多樣處理機制

可連續式的應用於表面清潔、活化以及接著促進之常壓式氬氣電漿系統
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Surfx 電漿優勢

我們的線上連續式常壓氬氣電漿,不會對熱敏感性高分子、或是對電磁敏感的半導體元件造成損害。

經過多年的產品開發,Surfx在氬氣電漿的技術方面取得了突破。我們的設備具有真空電漿的所有優點:低溫、低電壓、無物理性破壞、化學多樣性和即時製程參數控制,且能在常壓環境下操作並將設備整合到組裝產線中進行使用。電漿頭所產生的均勻反應氣體為100%電中性、無電弧放電、無火花、無靜電放電(ESD)、無紫外光(UV)且無粒子污染。這一大突破讓電漿處理第一次可以安全整合地整合到電子組裝產線中,在提高產品產量的同時降低生產成本。

我們的產品和服務使我們與眾不同

我們的使命是為您的製造需求提供最優質的產品。
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高產能

100mm幅寬的輝光式氬氣電漿,比起一般只有10mm直徑大小的Open-air電漿,可以更快且更均勻的清潔和活化表面。

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全面的參數控制

即時監控與控制每個製程參數,提供業界最高級別之製程參數可溯性。

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零損害

Surfx常壓式氬氣電漿為低溫電中性反應性氣體束,與 Open Air 電漿不同之處在於,Surfx無電弧放電、無火花、無靜電放電(ESD)、無紫外光(UV),且無粒子污染。

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高品質

我們以最嚴格標準製造高質量產品,並依約定按時交付。

產品預覽

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Argon Plasma Systems
常壓式氬氣電漿系統

具有100mm寬氬電漿體頭的AtomfloTM 600提供了市場上表面處理系統中最快的處理量!
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Plasma Sources
電漿源

一個電漿系統可替換多個電漿頭
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Nutplate Plasma Cleaner
Nutplate電漿清潔設備(NPC)

NPC可針對航太機具之nutplate在黏貼前進行表面處理,並在幾秒內完成材料處理,取代了費時的手工打磨。

與我們的工程團隊連繫

我們的常壓式氬氣電漿系統可以清潔和活化各種材料,包括玻璃、陶瓷、高分子、半導體和金屬。如果您遇到難題,我們的工程團隊將為您解決!

電子組裝、半導體製造、航空航太、汽車產業和醫療器材提供工業解決方案

我們的氬氣式電漿系統適合整合於智能工廠之中,以連續式的方式,在表面清潔、活化後立即接續到貼合的步驟。除了避免批次生產的問題、也避免電漿處理後久放失效的困擾。另外,我們的電漿提供不同的處理機制,以應付不同的製程需求:氬氣-氧氣的組合可用於去除有機汙染物;氬氣-氫氣的組合則是針對金屬氧化物的還原處理。而全面性的製程參數控制系統,也確保了每個元件都被妥善的處理,以及製程的可追溯性。
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電漿的好處

· 在幾秒內活化表面、促進接著貼合
· 清除工廠的有害化學物質
· 藉由接著貼合前的表面處理,以提高產能
· 以較低的成本生產出高質量的產品

自動化與整合

Surfx的常壓式氬電漿系統可輕鬆整合至任何生產線中。電漿不產生腐蝕性氣體,對設備平台不產生損害。電漿頭小巧輕便,可以在平面或3D組件上快速掃描處理。

機械平台

Surfx提供合適機械平台,用以搭載電漿頭對產品進行處理。
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整合型電漿系統

Surfx提供自動化解決方案。您可將我們的常壓式氬電漿系統整合至生產線中。
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Upcoming Events

Meet the Surfx staff and get a first hand demonstration of what plasma technology can do for you.

Nov 10-13,  2020

SEMICON Europe at the Messe Munchen, Munich, Germany

More Info

表面處理應用的全球領導者

Surfx Technologies 1999年成立於美國,為市場帶來的常壓式氬氣輝光電漿,具備獨特的低溫特性以及多變的化學性。我們的產品採用了最先進的電漿技術,並獲得多項美國專利。 Surfx的使命是成為半導體,電子組裝,航太及醫療等領域的表面處理應用之全球領導者。我們對我們的產品和服務感到自豪。我們的使命是為您的製造需求提供最優質的產品。。

關於我們

Surfx Technologies提供了市場上最好的氬氣電漿:高產能、均勻性佳、完備製程控制、高可靠度、高品質。我們的常壓式氬氣電漿對電磁敏感的電子元件完全無害,也適合用於連續式生產,針對表面進行清潔、活化以促進接著表現。我們的專業團隊會協助您,選擇最適合您的電漿解決方案。

© Copyright 2018 Surfx Technologies, LLC

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